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  • 光電及半導體廠酸、鹼氣去除設備-- 點此詳細介紹

    針對光電及半導體製程之酸、鹼性廢氣,有極優異之去除效率,特別是F2、CL2、HF、HCL、NH3等氣體更高達DRE%>99%以上的穩定的去除率,可針對客戶需求設計>99%或甚至>99.99%以上之客製化設計。


  • Local Scrubber PM & total support solution

    專業近20年豐富的經驗團隊,提供您最佳的技術協助


  • 光電、半導體設備維護、零組件開發升級

    光電、半導體設備維護、零組件開發升級


  • biogas desulfurization and purification equipment---Details

    The biogas desulfurization and purification equipment developed by Cheng Feng Environmental Technology is currently the most advanced and highest removal technology, targeting hydrogen sulfide (H2S), mercaptan (R-SH), ammonia (NH3), carbon dioxide (CO2), etc. All can achieve a very stable removal rate, guarantee >99% or more, can design a higher removal rate according to customer requirements, hydrogen sulfide(H2S) ensure removal rate over 99%, inlet greater than 5,000ppm, outlet less than 10ppm or lower, all can be designable, 365 days of continuous operation without maintenance, efficiency and stability, water, electricity, the lowest NaOH consumption, volume and construction cost is only 30% of the traditional wet scrubber, effective increase methane concentration 20% at least, efficiency is even higher up to more than five times.


  • 廢水廠臭味及硫化氫去除設備-- 點此詳細介紹

    硫化氫的保證去除率>99%以上,入口>5,000ppm,出口低於0.1ppm以下,可應客戶要求設計達到更低,365天連續運轉不需停機保養,效率完全不受天候或是環境影響,省水、省電、最低藥量消耗,運轉成本最低


  • 半乾式臭味氣體過濾裝置-- 點此詳細介紹

    針對臭味氣體,硫化物、有機氣體、甲醛、氯化氫等及其他臭味氣體有極佳的吸附效能 完全無任何運轉成本,不須水、氣、電等運轉成本,無廢水


  • 軟水系統-- 點此詳細介紹

    針對家用及工業用之軟水系統,去除水中重金屬、鈣、鎂等離子,較傳統離子交換樹酯之效率高於20倍以上


  • 氣液分離器

    針對氣體管道內水氣捕捉與收集提供設計


  • 臭味吸附劑_液態

    適用各產業及環境,成分天然無毒無味,使用極為方便,可加入噴霧系統或是直接噴灑於臭為來源,亦可加入洗滌塔使用,日本專利,效果極佳,時效快。


  • 廠房機電整合、維護、檢修

    甲電、提供廠房機電整合、維護、檢修


  • 各產業空調設備及機組設計、規劃、維護保養及施工

    提供各產業空調設備及機組設計、規劃、維護保養及施工服務